大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于外媒科技趋势预测的问题，于是小编就整理了1个相关介绍外媒科技趋势预测的解答，让我们一起看看吧。
有人说芯片1纳米就是极限了，以后该朝哪个方向发展，光刻机还有用没有？
个人觉得1nm之后应该还会有0.Xnm的新工艺出现！
发展方向：用石墨烯或碳纳米管等新材料替代硅、提高光刻机分辨率或许能实现突破！
1nm工艺确实是当前半导体工艺的光锥和视界，现在没有人知道1nm之后的半导体工业会发生什么！但一般情况下，人类都不会在遇到难以逾越的障碍时选择回避，而是总能找到解决问题的其他突破口！
其实早在2016年，隶属美国能源部的劳伦斯伯克利国家实验室Ali J***ey 团队宣称突破了物理极限，成功创造1 纳米晶体管。
该实验室利用二维材料技术用二硫化钼、碳纳米管和二氧化绝缘体锆实现了栅极长度1nm的晶体管。该成功公布在当时《科学》杂志上。
目前，这一研究还停留在初级阶段，毕竟在14nm的制程下，一个模具上就有超过10亿个晶体管，而要将晶体管缩小到1nm，大规模量产的困难有些过于巨大。
那如果1nm工艺要达到量产，留给人类还有多少时间呢？在不考虑半代工艺的前提下，半导体工业还有5、3及2nm工艺总计3代的可发展余地。
现有芯片制造的原材料是硅，也就是我们常说的硅芯片。一块非常小的芯片实际上整合了数以亿计的晶体管，每个晶体可看作是一个可控的电子开关，晶体管由源极、漏极和位于他们之间的栅极所组成，电流从源极流入漏极，栅极则起到控制电流通断的作用，从而产生0 1数字信号，在目前的芯片中，连接晶体管源极和漏极的是硅元素。
然而随着晶体管尺寸的不断缩小（目前已到5nm），源极和栅极间的沟道也在不断缩短，当沟道缩短到一定程度的时候，量子隧穿效应就会变得极为容易，换言之，就算是没有加电压，源极和漏极都可以认为是互通的，那么晶体管就失去了本身开关的作用，因此也没法实现逻辑电路。
那芯片的发展就此结束了吗？回答是肯定的：绝对不会停止！虽然硅芯片发展到了极限，要想突破这个极限的话，只能靠使用其它材料才代替硅了。例如石墨烯和碳纳米管等！
很高兴回答关于芯片1纳米就是极限了，以后该朝哪个方向发展，光刻机还有用没有？
我们要知道一台高端光刻机售价都超1亿美元，中国造不出来，美国日本也造不出，2018年5月，中芯国际曾向荷兰阿斯麦尔公司订购了一台最新型的EUV光刻机，价值达1.5亿美元，原计划在2019年初交付，不过在美国多方面阻扰，这项交易至今才有希望。中国在手机芯片半导体等制造的光刻机上被老美卡脖子，应发动科学家人才，像当年研究***精神来研发制造光刻机，用最短的时间就把光刻机研发出来，这才叫中国速度！是不是被人卡了，断供不卖了，才有危机感，在很多事情上觉得国人的依赖很强，其实只要我们团结一致共同努力在国家大力支持下肯定可以造出先进的高科技产品如光刻机等。
但是现在交不交货已经不重要了，一台EUV远远无法满足需求，即使这一台真交货了，后续也不可能再卖给中国，最近42国重新修订了《瓦森纳协议》，它就是为高技术封锁中国量身定制的，光刻机原理简单，难在精度，工艺不行，买来了也无法仿制。
荷兰公司只是个集成商，当然也有强大的技术做支持，也有德国美国顶尖科技的背书。这个不是发生非常大的变革，几乎追赶不上的事实。这个光刻机太复杂啦，从新研发的几乎不可能。大家想象一下，麒麟980是顶尖软件华为工程师，按照顶尖arm设计，使用顶尖光科技，在富士康顶尖7米制程才做出来的。
中国如果能突破光刻机其中的一个重要环节那就算相当了不起了，想造出先进的光刻机，实在太难，五年能赶不能赶上吗？我们不得而知，但是中低端光刻机必须实现国产自主化，这个比较符合实际。本身芯片技术发展就很快不过另辟蹊径说起来容易，做起来也很难，谁不知道量子技术好，但是人家也在研究，人家的科研氛围更自由，人才也比你多，我们年轻人不应该花大价钱去追星，应该除了加倍的努力付出，去把钱和精力来研究高科技高尖端技术，我们会更大更强。
我认为我们中国没有什么不可能的，只要专心用心，大力发展经济中国人没有造不出来的东西，何况人家已经造出来了，分析原理和部件组成不会吗？中国人会另辟蹊径，老美一战二战时航母、战斗机等等高科技术的战斗力量，我们现在在社会主义国家不是从无到有了吗，难道我们大中国现在不一样么？这就是中国!强大的中国！
到此，以上就是小编对于外媒科技趋势预测的问题就介绍到这了，希望介绍关于外媒科技趋势预测的1点解答对大家有用。
