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粒子对撞机和光刻机哪个科技更高？
光刻机，因为光刻机已走到摩尔定律的尽头，是人类文明最辉煌阶段。
光刻机，作为现在工业制造业上面的一颗明珠，并不是每个国家都能够制造出来的，就目前来说仅仅只有荷兰的ASML公司能够生产出来，而且想要获得荷兰ASML公司的光刻机。
而光刻机最大的影响是对于芯片的制造，我们现在所使用的手机智能处理器，都是由手机厂商研发出来的，而研发出来还需要制造，那么制造芯片的设备就是光刻机，可想而知，这光刻机对于智能工业的重要性是不言而喻的。
而对于对撞机来说的建设，主要的作用是用来研发束粒子流，在一定的能量状态下使其相互的进行对撞而产生的作用反应率，从而可以进行测量。所以简单的来说，就是对撞机对于研发高能粒子的天体物理有很大的建设意义。
光刻机与对撞机的区别？
光刻机技术属于应用技术，对撞机则属与基础科学领域，二者不在一个技术层别：光刻机解决的是人类现实需求的问题，而电子对撞机可以帮助人类解决“从哪来，到哪去”这一类的关乎人类命运与发展的问题。
1、对撞机是干什么用的？
对撞机是一种粒子加速器，是为了让不同粒子撞在一起。
对撞机是在高能同步加速器基础上发展起来的一种装置。
20世纪50年代初，对撞机的设计者就有过利用对撞束来获得更高质心系能量的设想。
对撞机是测量高能粒子实验的仪器，目的是要发现新物理新粒子，包括场能效粒子超对称粒子超额维度量子。
2、光刻机是干什么用的？
光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。
光刻机决定了芯片的精密尺寸，设计师设计好芯片线路，在通过光刻机将线路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上。
光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。
其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，而光刻机能快速生产高精度的芯片，所以很重要。
未来可能有哪些科技能极大降低建造高能量粒子对撞机的成本？
上个世纪50年代时，大物理学家费米构想了一个加速器，当时技术上还不能建造对撞机，费米构想的是一个有效能量能够达到3TeV的同步加速器。当时是按照最大的可能性去设计的，那个同步加速器的周长要达到地球赤道的周长。在当时看来，建造能量这么大的加速器是倾全球之力也难以企及的梦想。
一般而言，加速器的周长越大，就能够将粒子加速到更高的能量，当然也需要更多的建造成本。除了增大半径，其他方案也可以增强对撞机的功能。上个世纪80年代，以费米的名字命名的实验室费米实验室的质子反质子对撞机建成，其能量达到了1.8TeV，而对撞机的周长只有大约6.4千米。2007年建成的欧洲大型强子对撞机，能量达到了14TeV，已经是费米构想的3TeV的数倍，对撞机的周长也只有27千米。
对撞机较费米构想的地球周长那么大的加速器能够提供更高的能量，主要是由于两个方面的原因，除了现在可以依靠超导体将磁场的强度提高一个数量级外，更重要的是能够做到让粒子对撞。如果直接用高速运动的粒子撞击静止的粒子，高速运动的粒子的动能绝大部分会转化为被撞击粒子的动能，若是两个高速运动的粒子发生对撞，就可以充分利用两粒子的能量撞出新的粒子。
建造功能更强大的对撞机，就可以从这两个方面着手，依靠超导体可以产生超过20特斯拉的磁场，提高对撞亮度可以让更多的粒子发生碰撞，获得更高的流强以及更多的对撞数据。对撞亮度指的是发生对撞的事例数量与反应截面面积的比值，对撞机的构想在上世纪40年代就已出现，直到60年代才制造出第一台对撞机，主要就是因为对撞亮度不够。目前大型对撞机可以将反应截面的宽度控制在纳米数量级，如果还能进一步缩小反应截面面积，对撞机的功能还会更加强大。
即使可以从其他方面增大环形对撞机的本领，一般也不如增大对撞机的周长效果好。不过环形对撞机有一个缺陷就是会因同步辐射损失能量，并且损失的能量是按束流能量的四次方增长。此时直线加速器的优势就非常明显了，直线对撞机也是一个大的发展方向。
除了正负电子对撞机、质子-反质子对撞机、直线对撞机，其他的诸如质子-电子对撞机、重离子对撞机、γ光子对撞机也有各自的优势，都可以为探索物质世界的组成、宇宙的形成、暗物质等等问题的解决发挥作用。另外，寻找新的加速器也会是一个重要的研究方向。
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